Field oxide refers to the layer of silicon dioxide formed on the surface of a silicon wafer in semiconductor manufacturing.

फील्ड ऑक्साइड, जो सेमीकंडक्टर बनाने में सिलिकॉन वेफर की सतह पर बने सिलिकॉन डाइऑक्साइड की परत को संदर्भित करता है।

English Usage: The deposition of field oxide is critical for isolating different regions in a chip.

Hindi Usage: फील्ड ऑक्साइड का अभिक्षेप चिप में विभिन्न क्षेत्रों को अलग करने के लिए महत्वपूर्ण है।